[2017-05-03]晶瑞股份(300655)新股发行介绍

　　晶瑞股份(300655)新股发行介绍 一、发行概况 发 行 人：苏州晶瑞化学股份有限公司 主承销商(保荐人)：招商证券股份有限公司 发行数量：不超过2,206.25万股 市 盈 率： 发行方式：采用网下向询价对象配售和网上按市值申购发行相结合的方式;或采用中国证监会认可 的其他发行方式 发行对象：符合资格的询价对象和符合《创业板市场投资者适当性管理暂行规定》条件的在深圳 证券交易所开户的境内自然人、法人等投资者(国家法律、法规禁止购买者除外) 发行价格： 网上申购上限： 网下申购上限：1,400万股 网上申购日期：2017年5月11日 网下申购日期：2017年5月11日 网上缴款日期：2017年5月15日 网下缴款日期：2017年5月15日 二、网下发行 三、本次发行募集资金运用计划 (一)基本情况 本次募集资金运用计划经第一届董事会第三次会议、第十次会议、第十一次会议和2015年度第三次临时股东大会、2017年第一次临时股东大会审议通过,用于以下项目: 序号 项目名称 计划投资规模 募集资金使用量 投入时间进度 1 超净高纯试剂、光刻胶等新型精细化学品的技术改造项目 19,960 5,937.15 15 个月 2 研发中心项目 2,950 1,336.99 12个月 3 销售技术服务中心项目 4,025 1,824.20 24个月 4 补充流动资金项目 7,000 3,172.52 - 合计 33,935 12,270.87 (二)募集资金投资项目变更情况 公司原募投项目“电子工业用超纯化学品项目”(计划投资额17,075万元,募集资金使用量13,100万元)于2011年4月获得环评批复(苏环建[2011]72号),2015年2月完成土建,部分产品生产线已进入试生产阶段。因市场原因,公司决定对项目产品结构进行调整,调整后项目变更为“超净高纯试剂、光刻胶等新型精细化学品的技术改造项目(计划投资额”19,960万元,募集资金使用量13,100万元),2016年4月8日取得企业投资项目备案通知书(3205061601724号),2016年11月9日取得环境影响批复(苏环建准字【2016】113号)。 “超净高纯试剂、光刻胶等新型精细化学品的技术改造项目”与原项目相比,所有建筑保持不变,仅为生产车间内新增设备进行技术改造,设备投资额由原来的8,910万元变更为11,795万元。变更前后本次募集资金投资总额不发生变化。 与原投资计划相比,募投项目具体产品结构调整如下:计划新增投资产品包括蚀刻液、胶剥离液、显影液、清洗液、光刻胶、电子级电镀液,新增产能12,000吨;计划产能增加产品包括超纯氟化铵、超纯氨水、超纯过氧化氢,计划调整增加产能8,500吨;计划产能减少产品包括超纯盐酸、超纯氢氟酸、超纯硝酸、超纯氢氧化钾、超纯混酸、超纯异丙醇、超纯硫酸、超纯冰醋酸、超纯丙酮、超纯乙醇、超纯氢氧化钠、太阳能制绒清洗液,计划调整减少产能20,500吨;计划产能不变的产品包括过氧乙酸和高纯草酸;调整完成后,项目总产能维持40,000吨不变。 四、主要财务指标 财务指标 2016年度/2016年12月31日 2015年度/2015年12月31日 2014年度/2014年12月31日 1、流动比率 1.81 1.79 1.94 2、速动比率 1.57 1.58 1.77 3、资产负债率（母公司） 29.28% 29.00% 36.12% 4、资产负债率（合并） 39.32% 41.88% 45.78% 5、应收账款周转率（次/年） 2.45 1.98 2.31 6、存货周转率（次/年） 6.72 5.60 5.66 7、息税折旧摊销前利润（万元） 7,438.92 6,282.40 8,307.68 8、归属于发行人股东的净利润（万元） 3,389.78 2,841.38 4,042.48 9、归属于发行人股东扣除非经常性损益后的净利润（万元） 2,657.06 1,789.00 3,338.23 10、利息保障倍数（倍） 27.98 23.17 31.65 11、每股经营活动的现金流量（元/股） 0.40 0.26 0.64 12、每股净现金流量（元/股） -0.34 -0.87 0.83 13、归属于发行人股东的每股净资产（元/股） 4.39 3.93 3.52 14、扣除土地使用权后的无形资产占净资产的比例 1.44% 1.92% 0.98% 五、本次发行前后的股本情况 (一)本次发行前后股本结构 发行人本次发行前总股本6,618.7435万股。本次公开发行不超过2,206.25万股,本次发行后流通股占发行后总股本的比例不低于25.00%。本次发行前后股本结构情况如下: 股东名称 发行前 - 发行后 - 股数(万股) 股权比例(%) 股数(万股) 股权比例(%) 新银国际(香港) 2,076.9551 31.3799 2,076.9551 23.5349 许宁 983.8166 14.8641 983.8166 11.1481 南海成长 682.9219 10.3180 682.9219 7.7385 苏钢 583.0053 8.8084 583.0053 6.6063 祥禾泓安 437.6313 6.6120 437.6313 4.9590 尤家栋 336.3976 5.0825 336.3976 3.8119 徐成中 333.2537 5.0350 333.2537 3.7762 吴天舒 265.9742 4.0185 265.9742 3.0139 祥禾股权 153.5548 2.3200 153.5548 1.7400 常磊 112.0024 1.6922 112.0024 1.2691 吴媚琦 67.2001 1.0153 67.2001 0.7615 潘鉴 67.2001 1.0153 67.2001 0.7615 朱蓓叶 67.2001 1.0153 67.2001 0.7615 薛利新 62.8781 0.9500 62.8781 0.7125 区日山 50.3025 0.7600 50.3025 0.5700 徐建新 44.8023 0.6769 44.8023 0.5077 王芳 44.8023 0.6769 44.8023 0.5077 黄俊群 44.8023 0.6769 44.8023 0.5077 蒋一宁 44.8023 0.6769 44.8023 0.5077 严庆雪 44.8023 0.6769 44.8023 0.5077 胡建康 18.8634 0.2850 18.8634 0.2137 刘兵 16.3483 0.2470 16.3483 0.1852 戴悦光 12.5756 0.1900 12.5756 0.1425 钟建明 11.3181 0.1710 11.3181 0.1283 程欢瑜 11.3181 0.1710 11.3181 0.1283 雷秀娟 11.3181 0.1710 11.3181 0.1283 沈健 7.5454 0.1140 7.5454 0.0855 朱一华 7.5454 0.1140 7.5454 0.0855 王洪华 7.5454 0.1140 7.5454 0.0855 仲晓武 5.0302 0.0760 5.0302 0.0570 钱森林 5.0302 0.0760 5.0302 0.0570 本次发行流通股 - - 2,206.25 25.0000 合计 6,618.7435 100.0000 8,824.9935 100.0000 六、公司主营业务、主要产品或服务的基本情况 (一)公司主营业务、主要产品或服务的基本情况 1、公司主营业务 公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技术企业,主要生产四大类微电子化学品,应用到五大下游行业:主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料和锂电池粘结剂四大类微电子化学品,广泛应用于半导体、光伏太阳能电池、LED、平板显示和锂电池等五大新兴行业,具体应用到下游电子信息产品的清洗、光刻、显影、蚀刻、去膜、浆料制备等工艺环节。 报告期内,公司除经营上述微电子化学品外,还生产和销售少量食品级消毒剂过氧乙酸产品。 2、公司主要产品及用途 (1)超净高纯试剂 超净高纯试剂是控制颗粒和杂质含量的电子工业用化学试剂。按照性质划分可分为:酸类、碱类、有机溶剂类和其它类,具体情况如下: 序号 超净高纯试剂类别 品名 1 酸类 氢氟酸、硝酸、盐酸、磷酸、硫酸、乙酸等 2 碱类 氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、四甲基氢氧化铵等 3 有机溶剂类： -醇类 甲醇、乙醇、异丙醇等 -酮类 丙酮、丁酮、甲基异丁基酮等 -脂类 乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸异戊酯等 -烃类 苯、二甲苯、环己烷等 -卤代烃类 三氯乙烯、三氯乙烷、氯甲烷、四氯化碳等 4 其他类 双氧水等 超净高纯试剂主要用于半导体、光伏太阳能电池、LED和平板显示等电子信息产品的清洗、蚀刻等工艺环节。以半导体为例,不同线宽的集成电路制程工艺中必须使用不同规格的超净高纯试剂进行蚀刻和清洗,且超净高纯试剂的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性均有十分重要的影响。 公司生产的超净高纯试剂主要包括酸类中的氢氟酸、硝酸、盐酸、硫酸、乙酸,碱类中的氨水和有机溶剂类中的异丙醇等产品,公司生产的硝酸、氢氟酸、氨水、盐酸、异丙醇等产品已经达到0.1ppb水平(相当于SEMIG4等级),拳头产品双氧水已经达到10ppt级别水平(相当于SEMIG5等级),处于国际先进水平。 (2)光刻胶 光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质,由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是微细加工技术的关键性材料。在光刻工艺中,光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上,经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上,形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶按显示的效果,可分为正性光刻胶和负性光刻胶,如果显影时未曝光部分溶解于显影液,形成的图形与掩膜版相反,称为负性光刻胶;如果显影时曝光部分溶解于显影液,形成的图形与掩膜版相同,称为正性光刻胶。